氧化钴测试

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氧化钴样品检测分析报告

检测样品

本次检测的样品为某工业批次生产的氧化钴粉末，样品外观呈灰黑色，无明显结块或异物混入。样品均匀性经初步验证符合实验室检测要求。

检测项目

1. 氧化钴纯度：测定样品中氧化钴（CoO/Co₃O₄）的主成分含量。
2. 杂质元素分析：检测样品中可能存在的金属杂质（如铁、镍、铜等）及非金属杂质（如硫、氯）。
3. 粒度分布：分析粉末样品的粒径范围及分布均匀性。
4. 晶体结构：通过物相分析确定氧化钴的晶型（如立方晶系或尖晶石结构）。

检测方法

1. 纯度测定：采用电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES），通过标准曲线法计算氧化钴含量。
2. 杂质分析：使用**原子吸收光谱法（AAS）对金属杂质进行定量，非金属杂质通过离子色谱法（IC）**检测。
3. 粒度分析：通过激光粒度分析仪进行干法分散测试，获得D50、D90等关键粒径参数。
4. 晶体结构表征：利用**X射线衍射仪（XRD）**进行物相分析，结合标准PDF卡片比对确定晶型。

检测仪器

1. 电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）：型号PerkinElmer Avio 500，用于高精度主成分及微量元素分析。
2. 原子吸收光谱仪（AAS）：型号Thermo Scientific iCE 3500，检测金属杂质含量。
3. 激光粒度分析仪：型号Malvern Mastersizer 3000，配备干法分散模块。
4. X射线衍射仪（XRD）：型号Bruker D8 Advance，扫描范围5°–90°，步长0.02°。

检测结果概述

经检测，样品中氧化钴（Co₃O₄）纯度达到99.2%，符合工业级标准（≥98.5%）。杂质含量均低于限定值，其中铁含量为0.03%，硫含量未检出。粉末D50粒径为8.5μm，分布均匀性良好（Span值0.8）。XRD结果显示样品为典型的尖晶石结构，与标准Co₃O₄谱图一致。

结论

本次检测表明，该批次氧化钴样品纯度高、杂质含量低，物理化学性能满足电子陶瓷及电池材料领域的应用需求。建议进一步优化粒径控制工艺以提升产品一致性。

声明：本报告仅对送检样品负责，数据真实有效，未经许可不得用于商业宣传。

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实验仪器

测试流程

注意事项

1.具体的试验周期以工程师告知的为准。

2.文章中的图片或者标准以及具体的试验方案仅供参考，因为每个样品和项目都有所不同，所以最终以工程师告知的为准。

3.关于（样品量）的需求，最好是先咨询我们的工程师确定，避免不必要的样品损失。

4.加急试验周期一般是五个工作日左右，部分样品有所差异

5.如果对于（氧化钴测试）还有什么疑问，可以咨询我们的工程师为您一一解答。