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X射线荧光强度基质校正(ZAF法)

原创发布者:北检院    发布时间:2025-07-21     点击数:

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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。

信息概要

X射线荧光强度基质校正(ZAF法)是一种用于精确测定材料中元素含量的分析技术,通过校正基质效应(原子序数效应Z、吸收效应A和荧光效应F)提高检测结果的准确性。该方法广泛应用于金属矿石、陶瓷、玻璃等材料的成分分析,确保产品质量、工艺控制及合规性。检测的重要性在于其非破坏性、高精度和快速分析能力,为工业生产、科研及质量控制提供可靠数据支持。

检测项目

元素含量分析, 氧化物含量测定, 重金属检测, 痕量元素分析, 硫含量检测, 氯含量检测, 硅含量测定, 铝含量分析, 铁含量测定, 钙含量检测, 镁含量分析, 钾含量测定, 钠含量检测, 钛含量分析, 锰含量测定, 铜含量检测, 锌含量分析, 铅含量测定, 镍含量检测, 铬含量分析

检测范围

金属合金, 矿石样品, 陶瓷材料, 玻璃制品, 水泥, 耐火材料, 土壤, 沉积物, 涂料, 塑料, 橡胶, 电子产品, 电池材料, 催化剂, 废料, 矿物粉末, 钢铁, 铝合金, 铜合金, 钛合金

检测方法

X射线荧光光谱法(XRF):通过测量样品受激发后发射的特征X射线进行元素分析。

波长色散X射线荧光光谱法(WDXRF):利用分光晶体分离不同波长的X射线,提高分辨率。

能量色散X射线荧光光谱法(EDXRF):通过探测器直接测量X射线能量,实现快速分析。

熔融法制样:将样品与熔剂混合熔融,消除粒度效应和矿物效应。

压片法制样:将粉末样品压制成片,适用于松散或粉末状材料。

薄样法:制备超薄样品以减少基质效应。

标准加入法:通过添加已知量标准物质进行定量分析。

内标法:在样品中加入内标元素校正仪器波动。

半定量分析:通过对比标准谱库快速估算元素含量。

定量分析:基于校准曲线精确测定元素浓度。

无标样分析:利用基本参数法(FP法)计算元素含量。

微区分析:通过聚焦X射线束分析微小区域成分。

薄膜分析:测定薄膜厚度及组成。

镀层分析:测量镀层厚度及元素分布。

在线分析:实时监测生产过程中的成分变化。

检测仪器

波长色散X射线荧光光谱仪, 能量色散X射线荧光光谱仪, 台式XRF分析仪, 手持式XRF分析仪, 微区XRF分析仪, 同步辐射XRF设备, 多道X射线荧光光谱仪, 单道X射线荧光光谱仪, 高分辨率XRF光谱仪, 便携式XRF分析仪, 真空XRF光谱仪, 氦气氛围XRF光谱仪, 自动进样XRF系统, 三维XRF成像系统, 偏振X射线荧光光谱仪

实验仪器

实验室仪器 实验室仪器 实验室仪器 实验室仪器

测试流程

X射线荧光强度基质校正(ZAF法)流程

注意事项

1.具体的试验周期以工程师告知的为准。

2.文章中的图片或者标准以及具体的试验方案仅供参考,因为每个样品和项目都有所不同,所以最终以工程师告知的为准。

3.关于(样品量)的需求,最好是先咨询我们的工程师确定,避免不必要的样品损失。

4.加急试验周期一般是五个工作日左右,部分样品有所差异

5.如果对于(X射线荧光强度基质校正(ZAF法))还有什么疑问,可以咨询我们的工程师为您一一解答。

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